SediPipe® level
Opis
Na zariadeniach typu SediPipe level sú prítok a odtok v rovnakej výške. Vďaka tomu sa dá realizovať najmenšia možná hĺbka inštalácie odtokového potrubia alebo nadväzujúcej galérie. SediPipe level sa dá univerzálne použiť na rôzne druhy aplikácií:
- odvádzanie do povrchovej vody alebo do kanalizácie
- umiestenie pred potrubnou galériou SickuPipe alebo vedľa nej
- umiestnenie pred podzemný vsakovací objekt Rigofill alebo vedľa neho (neintegrovaná konštrukcia)
Prítok na počiatočnej šachte je otočný o 360°. Priemer prítoku a odtoku sa môže voliť od DN 200 do DN 300. Smer odtoku cieľovej šachty sa dá zvoliť ako priamy, ľavý a pravý alebo sa môže vo výrobnom závode nastaviť na požadovaný uhol v rozsahu 90° až 270°. Zariadenie sa potom môže ľahko prispôsobiť miestnym podmienkam. Na vyžiadanie sú možné vyhotovenia pre jednotlivé objekty.
Zariadenia na úpravu dažďovej vody s následnými dokladmi testované nezávislými inštitúciami: HTWK Leipzig, IKT Gelsenkirchen, IFS Hannover, TU Delft atď.
- Rovnocennosť s usadzovacou dažďovou nádržou
- Zaradenie do ATV-DVWK-M 153: typy zariadení D21, D24, D25
- Zisťovanie hodnôt priechodu podľa ATV-DVWK-M 153
- Eliminovanie remobilizácie
- Funkcia oddeľovača prúdenia
Zariadenie na úpravu dažďovej vody sa skladá z nasledujúcich súčastí:
- počiatočná šachta
- sedimentačná dráha (základná rúra s dokladom o zhode (označenie Ü) podľa zadania zoznamu stavebných predpisov A DIBt)
- cieľová šachta s odtokom (na úrovni päty prítoku) na šachtovom predlžovacom nadstavci
SediPipe level 400/6
- sedimentačná dráha DN 400, konštrukčná dĺžka 6 m
SediPipe level 500/6
- sedimentačná dráha DN 500, konštrukčná dĺžka 6 m
SediPipe level 600/6
- sedimentačná dráha DN 600, konštrukčná dĺžka 6 m
SediPipe level 500/12
- sedimentačná dráha DN 500, konštrukčná dĺžka 2× 6 m
SediPipe level 600/12
- sedimentačná dráha DN 600, konštrukčná dĺžka 2× 6 m
Oblasti použitia
Na úpravu znečistených odtokov dažďovej vody pri rovnakej výškovej polohe prítoku a odtoku s univerzálnym potrubným napojením pre všetky následné zariadenia.